Dziś zapraszam Was do przeczytania o kolejnym wspaniałym składniku stosowanym w pielęgnacji skóry.
Dlaczego jest taki super?
Ponieważ naturalnie znajduje się w strukturze skóry, jednak niektórym cerom może go brakować.
Mowa tutaj o czynnikach NMF, czyli Natural Moisturizing Factor ->naturalny czynnik nawilżający.
Jest to mieszanina substancji rozpuszczalnych w wodzie. Substancja ta pozwala na utrzymanie odpowiedniej ilości wody w górnych warstwach naskórka. Grupa tych składników wytwarzana jest na skutek procesu rogowacenia. Substancje wchodzące w skład NMF-U odpowiadają za wiązanie wody w naskórku.
Jest to idealny składnik dla skóry suchej, odwodnionej, ale może być również stosowany w przypadku skór tłustych, gdy istnieje potrzebuje nawilżenia.
W skład NMF wchodzą:
– aminokwasy
– mocznik
– kwas mlekowy oraz mleczany
– pyrolidonowy kwas karboksylowy (PCA)
Jeżeli poziom zawartości wody w skórze spada dość drastycznie, funkcja enzymatyczna odpowiedzialna za prawidłowe złuszczanie skóry zostaje upośledzona. Prowadzi to do gromadzenia się keratynocytów, przez co skóra jest szorstka i może w widoczny sposób się łuszczyć.
Dzięki składnikom NMF-u zapobiegamy temu zjawisku.
NMF ma kluczowe znaczenie dla utrzymania właściwości warstwy rogowej naskórka. Zapobiega pękaniu skóry, łuszczeniu. Skóra staje się bardziej elastyczna.
Łączenie NMF-u i wolnych kwasów tłuszczowych (pochodzących z fosfolipidów, ceramidów,
i rozkładu sebum) przyczyniają się do fizjologicznie ważnego i stopniowego zakwaszenia
warstwy rogowej w kierunku powierzchni skóry. Zmiany w pH, które odbiegają od normy (4,5 do 6,5- lekko kwaśne) czyli pH idące w kierunku zasadowego, odpowiadają za utratę integralności komórek keratynocytowych.
Dokładne pochodzenie niektórych składników NMF jest nie do końca określone. Mogą pochodzić one z rozkładu białek i aminokwasów. Sam mocznik, tak jak mleczany może pochodzić częściowo z potu.
Na koniec bardzo ważna wiadomość, im niższa wilgotność powietrza w środowisku zewnętrznym, tym mniejsza ilość wytwarzanego NMF w skórze.